光譜反射式膜厚、折射率測量儀器是***種利用光譜反射原理來測量薄膜厚度和折射率的設備。反射測量是通過分析從單層或多層薄膜結構反射回來的光強變化，來確定薄膜的厚度。在這個過程中，入射光以垂直的角度照射到樣品表面。由于界面之間的干涉效應，反射光譜會發生變化，這些變化可以用來計算薄膜的厚度，無論是在透明、部分透明還是完全反射的基板上。入射到樣品表面的光經薄膜上下表面多次干涉后從樣品表面出射，經過光譜儀的采集，得到出射光光強，出射光光強與入射光光強之比值即為薄膜的反射率（），此反射率表現為波長的函數，得到反射率曲線。
廣泛應用于半導體制造、平板顯示、光學鍍膜、太陽能電池等。中，反射式膜厚測量儀可以用于測量晶圓上的薄膜厚度，如二氧化硅、氮化硅等，以確保半導體器件的性能和可靠性。中，反射式膜厚測量儀可以用于測量液晶顯示器、有機發光二極管等的薄膜厚度，以確保顯示效果和質量。中，反射式膜厚測量儀可以用于測量光學鏡片、濾光片等的薄膜厚度，以確保光學性能和質量。中，反射式膜厚測量儀可以用于測量太陽能電池板上的薄膜厚度，如氮化硅、氧化鋁等，以確保太陽能電池的效率和可靠性。晶諾微 Quasar R100是***款體積小巧的光譜反射式膜厚、折射率測量儀器，操作簡單，極易上手。Quasar R100軟件還擁有豐富的的材料數據庫，客戶還可以通過軟件及自帶數據庫對材料，菜單進行管理，并具有豐富的數據查看、統計功能。
可測量如4-12英寸的晶圓及其他各種不規則形狀樣品；
b．測量精度和穩定性高：可測量材料厚度、折射率、吸收系數和反射率等；
(文章來源于儀器網)
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